在經(jīng)濟(jì)持續(xù)蓬勃發(fā)展的當(dāng)下,集成電路設(shè)計領(lǐng)域?qū)λ|(zhì)的要求愈發(fā)嚴(yán)苛。生產(chǎn)過程中,超純水成為保障集成電路性能的關(guān)鍵要素。展望未來數(shù)年,隨著集成電路制造商數(shù)量的遞增以及制造能力的提升,該行業(yè)對于超純水制備的需求將全面上揚(yáng),不僅在 “量” 上要求更多,鑒于集成電路制造工藝日益精密,對純水純度與穩(wěn)定性等 “質(zhì)” 的標(biāo)準(zhǔn)也將更為嚴(yán)格。
長期以來,混床離子交換技術(shù)作為超純水制備的經(jīng)典工藝,在超純水生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。然而,這一傳統(tǒng)工藝存在明顯弊端。其再生過程需周期性進(jìn)行,期間會消耗大量化學(xué)藥品(酸堿)以及工業(yè)純水,同時還會引發(fā)一定的環(huán)境問題?;诖耍邪l(fā)無酸堿超純水系統(tǒng)迫在眉睫。
傳統(tǒng)離子交換工藝在現(xiàn)代工業(yè)發(fā)展和環(huán)保理念普及的浪潮下,逐漸難以契合需求。在此背景下,融合了膜、樹脂以及電化學(xué)原理的 EDI 技術(shù)應(yīng)運(yùn)而生,堪稱水處理技術(shù)領(lǐng)域的重大革新。EDI 設(shè)備中離子交換樹脂的再生依靠電能實(shí)現(xiàn),徹底摒棄了酸堿的使用,高度契合當(dāng)下環(huán)保要求。
EDI 設(shè)備通常銜接于反滲透系統(tǒng)之后,用以替代傳統(tǒng)混床離子交換技術(shù),穩(wěn)定產(chǎn)出超純水。超純水系統(tǒng)一般由反滲透水處理設(shè)備、EDI 設(shè)備以及拋光混床協(xié)同構(gòu)成,共同制備超純水。這一組合不僅代表著超純水制備的全新技術(shù)路徑,更因其環(huán)保、經(jīng)濟(jì)且具備巨大發(fā)展?jié)摿Γ蔀榉浅S星熬暗某兯苽涔に嚒?/p>
超純水設(shè)備優(yōu)勢顯著,能夠持續(xù)穩(wěn)定地生產(chǎn)高品質(zhì)超純水,避免了因樹脂再生導(dǎo)致的運(yùn)行中斷。設(shè)備在結(jié)構(gòu)設(shè)計上非常緊湊,占地面積小,可為企業(yè)節(jié)省大量空間資源。相較于傳統(tǒng)超純水制備方法,超純水設(shè)備優(yōu)點(diǎn)眾多,能夠持續(xù)、穩(wěn)定地為集成電路產(chǎn)業(yè)供應(yīng)高質(zhì)量超純水,有力推動集成電路產(chǎn)業(yè)邁向更高發(fā)展臺階 。
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