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超純水設備采用“反滲透+EDI+拋光混床”的綜合技術(shù)，不但能深度去除超純水中含有的各種離子、雜質(zhì)和細菌，還能使出水電阻率達到18MΩ*cm(25℃)，生產(chǎn)質(zhì)量十分穩(wěn)定。...
超純水的獲得并非易事，它依賴于一系列精密的過濾和凈化技術(shù)。通過采用EDI(電去離子)、反滲透膜技術(shù)以及拋光混床技術(shù)的集成系統(tǒng)，確保了超純水的高品質(zhì)與穩(wěn)定性。...
硅晶圓超純水設備憑借先進工藝，實現(xiàn)了對水質(zhì)的深度凈化，為硅晶圓制造及其他高科技產(chǎn)業(yè)提供了至關重要的超純水支持。...
在半導體制造業(yè)的尖端領域，超純水設備扮演著至關重要的角色，直接關系到芯片的性能、可靠性和生產(chǎn)效率。...
超純水設備集成了反滲透、EDI及拋光混床等多種先進工藝，形成了一套高效、穩(wěn)定的超純水制備系統(tǒng)。...
超純水，定義為電阻率超過18 MΩ*cm，幾乎不含有任何雜質(zhì)的水，是半導體制造中最為嚴苛的用水標準。...
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